长鑫存储取得半导体器件及其制作方法专利,通过控制晶圆以不同的转速进行转动半导体,利用不同转速之间变换时产生交替的离心力以及回缩力,使涂覆液在晶圆表面均匀分布,为器件后续制程提供平坦的膜层面,克服了器件的制造缺陷
金融界2023年12月6日消息雷火竞技,据国家知识产权局公告,长鑫存储技术有限公司取得一项名为“半导体器件及其制作方法“,授权公告号CN115770708B,申请日期为2022年11月。
专利摘要显示,本公开提供了一种半导体器件及其制作方法,涉及半导体技术领域。该制作方法包括:提供一晶圆,晶圆固定于旋转涂布装置的基板上,旋转涂布装置具有出液端雷火竞技,出液端与基板相对设置;出液端对晶圆表面输出涂覆液;旋转涂布装置以第一旋转速度带动晶圆做旋转运动,使涂覆液沿晶圆半径方向由内至外布满晶圆表面;旋转涂布装置以第二旋转速度带动晶圆做旋转运动半导体,第二旋转速度小于第一旋转速度,涂覆液在晶圆表面由外至内回缩,使涂覆液均匀分布于晶圆表面,形成涂覆层。通过控制晶圆以不同的转速进行转动,利用不同转速之间变换时产生交替的离心力以及回缩力,使涂覆液在晶圆表面均匀分布,为器件后续制程提供平坦的膜层面,克服了器件的制造缺陷。
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