L4513-3扩散炉半导雷火竞技体设备

发布日期：2023-04-19 15:25 浏览次数：

　　扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火半导体设备、合金及烧结等工艺。

　　扩散炉由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。控制部分包括：温控器、功率部件雷火竞技、超温保护部件、系统控制。系统控制部分有四个独立的计算机控制单元，分别控制每层炉管的推舟、炉温及气路部分，是扩散/氧化系统的控制中心。辅助控制系统雷火竞技，包括推舟控制装置、保护电路、电路转接控制、三相电源指示灯、照明、净化及抽风开关等。