雷火竞技直击股东大会｜盛美上海：未来半导体设备就是IP竞争 注重研发同时开拓海外市场

　　集微网消息，6月28日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：盛美上海，证券代码：688082）召开2022年年度股东大会，就关于2022年年度报告及摘要的议案、关于2022年度利润分配预案的议案、关于公司《2023年限制性股票激励计划（草案）》及其摘要的议案等多项议案进行了审议。与会期间，盛美上海董事长王晖博士，公司董监事及高管与包括爱集微在内的股东就议案情况、IP保护、半导体设备供应国产化、半导体产业前景等议题进行了深入交流。

　　盛美上海高度重视科技创新和知识产权保护工作，王晖博士表示，“2022年获批的专利中90%以上都是发明专利，截止去年年底共获得389项专利，其中发明专利384项，同时还有很多专利处于申请程序中。盛美专利的数量可观，同时质量也很高。”

　　在本次股东大会上，盛美上海通过了《关于公司2023年限制性股票激励计划（草案）及其摘要的议案》，王晖博士提及半导体设备，这项激励计划把专利申请作为一项考核的指标，表现了公司对IP保护的重视和对研发的关注。“我们从成立之初就把IP看得非常重要，因为我们认为IP决定了高科技公司的未来，未来半导体设备就是IP的竞争，IP能够让公司研发成功的新产品得到法律保护，从而保证公司的长期利润。”他进一步解释说道。

　　从研发投入上来看，2022年盛美上海合计较上年同比上升53.61%，主要是聘用的研发人员人数以及支付研发人员的薪酬增加，现有产品改进及工艺开发以及新产品及新工艺开发、研发测试等服务费增加。对于今年的目标，王晖博士指出，“今年我们会把研发投入保持在销售额的14-15%之间，由于我们销售额在增加，研发投入也会同步增长。”在研发人员方面，2022年盛美上海研发人员增加128人雷火竞技，较上年同期增长32.74%。

　　据了解，盛美上海通过持续的研发投入和长期的技术、工艺积累，在新产品开发、生产工艺改进等方面形成了一系列科技成果。2022年在立式炉管设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、先进封装用金属剥离湿法设备半导体设备、新型化合物半导体系列湿法设备和硅材料衬造湿法设备等多项产品上均实现了突破。

　　当谈及研发对公司的重要性时，王晖博士表示：“半导体产业不断发展、迭代，技术也没有尽头。未来中国半导体设备公司一定要强调技术开发并看准国际市场。未来盛美上海要做一家有IP有差异化技术的全球化公司，经过这一波国内产业的高速增长以后，我们希望盛美自主研发的差异化产品能够进入全球市场，让国内的先进技术能够应用到全世界的生产线。其中一个关键点在于打造差异化创新，在这一进程中，我希望盛美能够走得稍微快些，希望通过自己抛砖引玉让国内的半导体公司能够快速的研发新技术从而进入全球生产应用。”

　　业内周知，全球半导体清洗设备市场高度集中，尤其在单片清洗设备领域，DNS、TEL、LAM 与SEMES四家公司合计市场占有率达到90%以上，其中DNS市场份额最高，市场占有率在 35%以上。本土12英寸晶圆厂清洗设备主要来自DNS、盛美雷火竞技上海、LAM、TEL。目前，本土能提供半导体清洗设备的企业较少，主要包括盛美上海、北方华创、芯源微及至纯科技。

　　近两年来，在全球缺芯的浪潮和国内半导体市场强劲需求的推动下，中国再次掀起了晶圆产能建设的高潮。盛美上海牢牢把握住这一机遇，根据中银证券专题报告的历年累计数据统计显示，盛美上海清洗设备的国内市占率为23%；而Gartner 2021年数据显示，盛美上海在全球单片清洗设备的市场份额已升至5.1%。

　　王晖博士提到，“我们在继续领导国内半导体清洗设备市场的同时也在积极开拓海外市场，今年欧雷火竞技洲市场、韩国市场将会是重点。”

　　据悉，在欧洲市场方面，今年2月，盛美上海宣布获得来自欧洲一家全球性半导体制造商的首个12腔单片SAPS兆声波清洗设备订单。该设备配置了公司自主研发的空间交变相位移（SAPS）技术，预计将于2023年第四季度交付至该客户的欧洲工厂。另外在韩国市场上，计划投资2.45亿元新建盛美半导体设备韩国研发与制造中心，其中，建设投资1.90亿元，研发投入0.55亿元。盛美上海将在韩国购置土地，建设新的办公大楼、洁净室及生产车间，建成盛美半导体设备韩国研发与制造中心，改善盛美韩国的生产条件，提升盛美韩国的研发实力及产业化能力。

　　对于未来海外市场销售占比的判断，王晖博士表示，“这取决于我们的开拓力度以及成功率，未来我们希望销售一半在国内，一半在海外，如果进展顺利，希望在未来5年或者更长时间实现国内、海外市场各占销售额50%的目标。同时我们在尊重国内及国外同行IP的基础上，持续差异化创新，即研发的新技术新产品能够在全球范围内销售雷火竞技，服务所有客户，实现可持续增长。”

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