中微公司获191家机构调雷火竞技研：公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场（附调研问答）半导体

　　中微公司7月4日发布投资者关系活动记录表，公司于2022年6月30日接受191家机构单位调研，机构类型为QFII、保险公司、其他、基金公司、海外机构、证券公司、阳光私募机构。

　　2016-2021年中微公司营业收入持续增长，从6.10亿元上升至31.08亿元，CAGR达38.52%，公司新产品与新客户持续拓展，刻蚀设备销量提升显著且持续。公司2022年第一季度收入9.49亿元，较上年同期增加约3.46亿元，同比增长57.31%。

　　答：在疫情初期，公司做好了相应准备：闭环生产、物流通行证、海关通关等等。公司密切关注疫情动态同时采取了防疫应急措施，认真贯彻国家和上海市政府关于疫情防控的决策部署，在政府相关部门的支持和公司的努力下，公司生产运营基本正常。

　　答：公司的刻蚀设备在工艺覆盖度方面不断提升，在客户端验证的工艺进度良好，目前订单情况饱满。

　　问：2021年公司刻蚀设备收入20亿元，同比提升55.4%，公司CCP设备已批量应用于国内外一线客户的集成电路生产线,并持续提升市场占有率,在部分客户市场占有率已进入前三位甚至前二位。请公司结合下游需求情况说明公司刻蚀设备的高速增长是否可持续，并说明公司将采取哪些措施进一步提升公司刻蚀设备产品的技术优势以及市占率水平。

　　答：随着国际上先进芯片制程从14纳米到10纳米阶段向7纳米、5纳米及更先进工艺的方向发展，当前光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。

　　公司为进一步提升公司刻蚀设备产品的技术优势以及市占率水平，采取的措施包括但不限于：

　　（1）公司将不断完善研发管理机制和创新激励机制，对在技术研发、产品创新、专利申请等方面做出突出贡献的技术研发人员给予奖励，激发技术研发人员的工作热情。

　　（2）公司将持续加大研发投入力度，搭建更好的研发实验环境，为技术突破和产品创新提供重要的基础和保障。

　　（3）设备的研发方面，公司在持续改善现有设备的性能的同时，将根据先进逻辑芯片和高密度存储DRAM和3DNAND芯片的不同刻蚀需求，细分产品，开发不同的硬件特征，提高产品针对不同应用的刻蚀性能，满足不同客户的需求。与此同时，公司会根据客户的研发需求，定义下一代产品的技术指标和技术路线，开发能满足客户需求的新产品。

　　答：2021年营业收入31.08亿元，其中刻蚀设备收入为20.04亿元，占收入比例约为64.48%；MOCVD设备收入为5.03亿元，占收入比例约为16.18%。2022年第一季度营业收入9.49亿元，其中刻蚀设备收入为7.14亿元，占收入比例约为75.24%；MOCVD设备收入为0.42亿元，占收入比例约为4.43%。

　　答：根据机构统计数字，2021年ICP市场大概是90-100亿美元左右半导体设备。中微的刻蚀团队拥有丰富的ICP设备开发经验，尹志尧博士也是全球ICP设备技术的主要推动者之一。公司的ICP产品进入市场后，付运机台数量增长迅速，2021年ICP设备交付134腔，同比增长235%。公司的ICP设备用了很多的差异化设计，并且有双台机和单台机两种配置可供客户选择雷火竞技，在高端配置上能满足客户需求。

　　问：公司MOCVD取得了很好的份额和定位，如何看待这块业务未来的成长性？

　　答：MOCVD设备目前在照明、显示市场应用广泛。更重要的是Mini LED和Micro LED市场的拓展，相关市场的发展前景很大。MOCVD设备重要的应用还包括功率器件等。市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。中微公司在其中三个领域有开发相关产品，公司将继续开发照明、显示领域，包括Mini LED，Micro LED，以及功率器件等等领域的外延设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。未来市场空间非常广阔。

　　答：作为国内刻蚀设备龙头企业，公司在整个半导体设备国产化进程中具有明显优势。公司长期保持大规模、高强度的研发投入，但对标国际半导体设备巨头的研发布局和研发规模，公司仍有较大差距。公司将持续提升在技术研发方面的投入水平，进一步缩小与海外同行业巨头在研发方面的差距。

　　答：在江西省南昌市高新区约14万平方米的研发生产基地已全面封顶，计划将于2022年内陆续投入生产。南昌产业化基地主要承担较为成熟产品的大规模量产及部分产品的研发升级工作。

　　答：公司目前已经组建团队在开发LPCVD设备和EPI设备，研发进展按计划进行中，同时公司将在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖半导体。

　　问：MOCVD业务在手订单情况不错，MOCVD毛利率提升幅度大的原因是什么？

　　答：新的产品型号Prismo UniMax主要针对Mini-LED设计。性能、复杂性提高很多，提供更多的价值给用户，所以毛利率有明显增长。

　　答：公司积极关注下游市场扩产计划并努力争取各种可能的市场机会，公司的刻蚀设备在国内主要客户端市场占有率不断提升。在逻辑集成电路制造环节，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到5纳米等先进的芯片生产线上；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求，已开发出小于5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。在3D NAND芯片制造环节，公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产，同时公司根据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层及以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺。此外，公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，根据客户的技术发展需求，正在进行下一代产品的技术研发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

　　答：目前公司产品有部分零部件需要进口，公司采取多厂商策略保障零部件及时供应。公司一直坚持合法合规经营，并严格遵守各经营地的包括出口管制在内相关法律法规。

　　答：公司目前刻蚀设备的零部件国产化率大约60%，MOCVD设备的零部件国产化率大约80%。

　　答：公司目前持有睿励仪器股权比例为29.36%。尹志尧博士担任睿励仪器董事长。

　　答：公司产品已进入国际供应链，公司在全球主要市场也进行渠道建设，已拥有6个境外子公司、15个区域办公室。

　　答：公司在2021年总结自成立以来的发展经验，全面梳理公司核心价值观和企业文化，总结了四个十大，即“产品开发的十大原则”、“战略销售的十大准则”、“营运管理的十大章法”和“精神文化的十大作风”。公司通过总结并宣导“四个十大”，落实科学管理和营运体系，倡导先进的企业文化，不断提升企业经营质量，提高员工的向心力和积极性，打造能孕育、保持创造力和发展力的中微大平台。同时雷火竞技，公司通过文化宣导和输出，希望和海内外合作伙伴一起努力实现技术进步和并推动产业的快速发展;

　　中微半导体设备(上海)股份有限公司的主营业务是半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。公司的主要产品有电容性等离子体刻蚀设备，电感性等离子体刻蚀设备，MOCVD设备，VOC设备。

　　2019年在美国领先的半导体产业咨询公司VLSI Research对全球半导体设备公司的“客户满意度”调查和评比中，公司综合评分继2018年的结果之后继续保持全球第三，在芯片制造设备专业型供应商和专用芯片制造设备供应商评比中均名列第二，并在薄膜沉积设备评比中继续名列第一。同时，全球晶圆制造设备商评级为五星级公司仅有五家，中微公司是其中之一。

　　投资者关系关于同花顺软件下载法律声明运营许可联系我们友情链接招聘英才用户体验计划

　　不良信息举报电话举报邮箱：增值电信业务经营许可证：B2-20090237雷火竞技雷火竞技雷火竞技