雷火竞技全球最大半导体设备市场迎来投资机遇期：关注光刻机产业链与关键部件企业

　　原标题：全球最大半导体设备市场迎来投资机遇期：关注光刻机产业链与关键部件企业

　　光刻机是半导体芯片生产中最复杂、最关键的工艺步骤，光刻耗时长、成本高，但随着半导体行业的快速发展，半导体设备需求稳步增长，光刻机作为核心工序设备，占半导体前道设备价值比重较高雷火竞技。全球半导体设备销售额从2012年的369.2亿美元增长至2022年的1076.5亿美元，CAGR达11.29%，其中，中国大陆的半导体设备销售额从2012年的24.9亿美元增长至2022年的282.7亿美元，CAGR为27.5%，增速远超世界平均水平。2020年到2022年中国大陆连续三年成为全球最大的半导体设备市场。因此，建议关注光刻机产业链相关标的雷火竞技，如上海微电子、奥普光电(002338)、华卓精科等半导体设备。

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　　分辨率是光刻机最重要的技术指标，由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定。光刻机最小分辨宽度（CD）取决于光源波长、物镜的数值孔径和与芯片制造工艺相关的因素k1。因此，可关注光源系统、物镜系统、工件台等光刻机核心零部件的相关企业，如ASML、纳芯光刻、华锐精密等。

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　　国产光刻机市场空间广阔，但长期以来，国内光刻技术落后于先进国家，成为我国工业现代化进程的一块短板。近年来半导体，在国家政策的扶持以及一批龙头企业的带领下，我国光刻机技术开始飞速发展。国产光刻机在不同级别上取得了显著的研究成果，如上海微电子已实现90nm量产，正在攻坚28nm光刻机。因此，可关注国产光刻机产业链相关标的，如上海微电子、华卓精科等。

　　投资风险主要来自下游需求不及预期、行业竞争激烈带来盈利能力下行、产品开发不及预期等方面。

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　　中国大陆连续三年成为全球最大的半导体设备市场，光刻机产业链标的值得关注。虽然分辨率是光刻机最重要的技术指标，但国产光刻机市场空间广阔，正在飞速发展。就像俗话说的：“磨刀不误砍柴工”，国产光刻机也在稳步向前！

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