雷火竞技国产半导体设备再获突破实现关键技术认证可为中芯国际供货

　　制造业是各大行业的基础，芯片半导体也不例外，只有通过制造才能将众多设计好的芯片生产出来。可是外界并不知道，生产芯片需要用上非常多的半导体设备。可能一些人只了解制造芯片的设备有光刻机，但其实光刻机也不过是冰山一角而已。

　　芯片制造过程中需要经历上千道步骤半导体，这些步骤不可能用一台设备就完成。比如对晶圆的曝光需要用上光刻机，把芯片电路图曝光在硅片上。

　　光刻机中国还处在28nm层次，刻蚀机已经到了5nm级别雷火竞技，此前中国电科旗下附属装备集团突破离子注入机，实现28nm全谱系产品的国产化覆盖。让中国半导体在离子注入环节有了更充分的保障。

　　除了以上这些，国产半导体设备再获重大突破，在半导体清洗环节实现相应进展。据国内半导体设备厂商至纯科技表示，28nm节点的全部湿法工艺设备已认证完毕。

　　至纯科技实现了关键技术认证，其生产的湿法设备主要用于半导体生产工艺环节中的清洗，把硅片上的颗粒、氧化层、有机物等杂质清洗干净。

　　有了至纯科技湿法设备的供应，中国在建设相应的供应链环节时就更有保障了。至纯科技的客户包括中芯国际，这也意雷火竞技味着能够为中芯国际供货。中芯国际不需要从国外进口相应的湿法清洗设备了。

　　另外，有消息透露至纯科技将在明年进行14nm，7nm工艺的客户验证。验证客户包括中芯国际、华为、华虹集团等等。

　　市场对28nm的需求超过了高端芯片，以往或许需要从国外进口大量的成熟工艺芯片，但是在中国半导体实力不断提升的情况下，基本上能够通过国内的生产线来满足内需了。

　　行业判断，国产在2022年底之前会实现14nm制程芯片的量产突破。28nm也会在今年底进入到量产阶段。

　　刚传出这个消息时，还存在许多的不确定性。可是眼看中国电科突破28nm的离子注入机，至纯科技完成28nm技术节点的认证，上海微电子也即将交付28nm的光刻机。

　　还有中芯国际早早就掌握了28nm的制程工艺，实现国产28nm的量产并非不可能。等28nm实现量产，14nm的国产化量产也并非难事。

　　至纯科技的半导体设备突破让许多人看到了国产芯片的希望，一家企业突破可能没有太大的意义，可是在众多产业链都一起进步后，结果就不一样了。

　　可以看出，国产芯片产业链正在崛起。从纯粹靠国外进口到国内自给自足半导体设备，这一切的进展都非常快。

　　有了第一次突破，就会有第二次，第三次，直到实现所有技术难题的攻克雷火竞技。到那时候，美国再想对中国半导体出手也无济于事，因此通过自己的力量，就能应对任何危机，又何必担心国外的行动呢？

　　期待能有越来越多的国产企业参与进来，参与国产半导体产业链的发展，为中国芯片的崛起保驾护航。

　　国产芯片已经有一定的技术积累，在人才队伍，企业技术创新突破和产业资源等方面，都有相应的部署。至纯科技只是国产芯片半导体的其中一员，还有无数家半导体公司正在攻坚克难，攻破国外技术壁垒。

　　就目前的发展趋势而言，中国芯片的未来是能够掌握在自己手中的。不需要依赖国外技术也可以站起来，国外不向雷火竞技我国提供芯片，设备无所谓，等将来我们自己造出来时，想重新卖给我们也未必会要。

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