在2021年的缺芯、涨价影响下,国内外半导体大厂纷纷大幅增加资本开支,建厂扩产。在轰轰烈烈的建厂潮下,中国大陆逐渐于2021年第二季度成长为全球第一大半导体制造设备市场。
一方面雷火竞技,国内半导体制造设备市场逐渐成长;另一方面,国内芯片制程厂商也开始逐渐使用国产设备。北方华创(002371,SZ),正是国内产品种类最丰富的半导体设备厂商。截至12月22日,北方华创的股价在2021年内涨幅接近90%。
受2021年以来持续的“缺芯”影响,各大半导体厂商大幅建厂扩产。特别是台积电宣称未来3年内将投入1000亿美元增加产能。除台积电外,三星、英特尔、格芯、中芯国际等半导体制造企业均有大规模投资建厂的计划。
中国大陆市场半导体设备需求尤为火热,根据9月7日SEMI发布的《全球半导体设备市场报告》,2021年第二季度全球半导体设备出货金额达249亿美元,创历史新高,同比增长48%。中国大陆、韩国、中国台湾地区位列前三:中国大陆第二季度半导体设备出货82.2亿美元,同比增长79%;韩国第二季度半导体设备出货额为66.2亿美元,同比增长48%;中国台湾地区第二季度半导体设备出货50.4亿美元,同比增长44%。
目前全球半导体设备市场主要由美国、日本、荷兰厂商控制。国内厂商方面,主要以北方华创、中微公司、盛美上海为主。晶圆制造过程主要包括7个相互独立的工艺流程:光刻、刻蚀、薄膜沉积、扩散、离子注入、化学机械抛光半导体设备、金属化。其中,光刻、刻蚀、薄膜沉积为设备价值最高的三个流程,价值占比之和超过50%。另外,随着工艺复杂度的提高,清洗设备的重要性也在逐渐提高。
相比中微公司侧重刻蚀,盛美上海侧重清洗,北方华创的产品则覆盖刻蚀、薄膜沉积和清洗。北方华创在2020年年报中表示:“公司集成电路先进制程多种产品通过客户验证,成熟制程设备工艺覆盖率快速提升。刻蚀机、PVD、立式炉半导体设备、清洗机等产品在集成电路、先进封装主流客户实现规模销售。”
国产厂商已经在刻蚀设备、清洗设备雷火竞技、薄膜沉积设备中占据部分市场份额。以长江存储2021年9月至11月上旬数据为例,其刻蚀设备主要采购自北方华创,共计2台,另有4台薄膜沉积设备采购自北方华创。
此案例中,长江存储采购自北方华创各项设备的量并非最多,但产品种类确实最广,包括薄膜沉积设备、退火设备、刻蚀设备、氧化设备和炉管设备,各类产品数量合计10多台。
根据东吴证券数据,截至2020年12月,半导体设备中,刻蚀设备、薄膜沉积设备、量检测设备、清洗设备、离子注入设备、CMP设备、涂胶显影设备的国产设备率分别为7%、8%、2%、20%、2%、10%、7%,而光刻设备的国产设备率仍是0%。
可以看出,薄膜沉积设备方面,北方华创中标的PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)、ALD(原子层沉积)设备分别为14台、5台和1台,共计20台;中微公司中标的MOCVD(金属有机化合物化学气相沉积)设备为1台;沈阳拓荆中标的CVD为24台。也就是说,在上述时间段中,北方华创在薄膜沉积设备销量方面仅次于沈阳拓荆,在国产厂商中排名第二。
清洗设备方面,北方华创中标的湿法清洗设备为13台。而芯源微、盛美上海、屹唐半导体中标的湿法清洗设备分别为8台、14台和2台。即北方华创在上述时间段中,于国产清洗设备厂商中销量排名第二,仅次于盛美上海。
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